光刻机最核心的部件是镜头,上海微电子研发了10年,才成功量产90nm光刻机
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光刻机的最核心部件为镜头,很多人对这个“玻璃”很不屑,以为不就是一块破玻璃嘛,可打脸的是上微电子2007年就研发成功的国产90NM光刻机,却直到11年后的2018年才能正式量产,问题就是被卡在这个“玻璃”上。
镜头的最大难度:【镜面光洁度】,以目前最顶尖的EUV光刻机为例子,镜头的分辨率要达到5NM,意味着EUV的镜头的镜面光洁度要达到50皮米。这个是什么概念?相当于把整个云南省全部推倒并刮平地面,全省的平整度不能超过1厘米。要实现这个极端要求,必须拥有精度最高的打磨机、颗粒最细的镜头磨料、还得有称为“金手指”的顶级技工。蔡司目前的“金手指”技工团队不到20人,这也是ASML产量不够的根本原因,因为镜头属于标准非球的加工,无法纯机械打磨,必须手工与机械配合。
上微电子2007年研发成功的90NM光刻机,当时使用的【数值孔径为0.93NA,分辨率为90nm】的镜头由蔡司提供,但是在同年随即被美国卡了脖子,机器无法量产,经过10多年的努力, 在2018年,长春国科精密光学研发的【数值孔径0.75NA,分辨率为90nm】验收成功,纯国产90NM光刻机正式量产。
上微电子即将量产28NM光刻机,说明国产镜头技术又继续进步了,追赶蔡司和尼康是一刻不停,在电子技术和电气技术上,我们从来不落后,唯独差在机械精度和手工精度上。
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